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> Trion等离子沉积，刻蚀
Trion创建于1989年,是一家等离子刻蚀与沉积系统制造商
Trion为化合物半导体、MEMS（微机电系统）、光电器件以及其他半导体市场提供多种设备。 产品占地面积小、成本低，可靠稳定。 
Oracle III 多腔室系统
由中央真空传输机构(CVT)、真空盒升降机和最多四个工艺反应室构成。这些工艺反应室与中央负载锁对接，既能够以生产模式运行，也能够作为单个系统独立作业。Oracle III是非常灵活的系统，既可以为实验室环境进行配置（使用单基片装卸），也可以为批量生产进行配置（使用真空盒升降机进行基片传送）。
由于Oracle III最多可容纳四个独立的工艺室，其可以有多种不同的工艺组合，其中包括RIE/ICP（反应离子刻蚀机/电感耦合等离子）刻蚀和PECVD沉积。多个室可以同时工作。工艺室均有真空负载锁，工艺运行安全且没有大气污染。
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