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> Trion等离子沉积，刻蚀
Trion创建于1989年,是一家等离子刻蚀与沉积系统制造商
Trion为化合物半导体、MEMS（微机电系统）、光电器件以及其他半导体市场提供多种设备。 产品占地面积小、成本低，可靠稳定。
Gemini，Apollo去胶机
Gemini和Apollo。
利用ICP（电感耦合等离子）、微波和射频偏置功率， 可以在低温条件下将难于消除的光刻胶去除。根据应用要求， 每套系统可以结合SST-Lightning微波源 （既可靠又没有任何常见的微波调谐问题）或ICP技术。
—刻蚀速率高达6微米/分
—吞吐量高
—等离子损伤低
—自动匹配网络
—适用于100mm到300mm基片
—设备占地面积小
—价格具竞争性
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